liguan1218@163.com
15562450816
中文 | English
網站首頁
關于我們
公司簡介
企業文化
產品展示
半導體芯片設備
化合物半導體設備
新聞資訊
公司新聞
行業資訊
招賢納士
管理理念
加入力冠
聯系我們
English
關鍵詞：
MPCVD設備
適用領域： ?單晶生長、多晶熱沉 Relevant Industries: Single Crystal Growth, Polycrystalline Heat Sink Fabrication 適用材料: ?Diamond Suitable for Processing: Diamond 晶圓尺寸: ?8/6/4/3/2英寸 Wafer Size: 8/6/4/3/2 inch
MPCVD
怎么才能選擇一款適合您的？
讓我們協助您！
我們的專家盡快與您聯系，滿足您更多需求。
最新產品
氧化/擴散/退火爐
LPCVD設備
SiC高溫退火爐
SiC高溫氧化爐
垂直布里奇曼法（VB）爐（非銥技術）
HVPE 法單晶生長設備 —臥式
HVPE 法單晶生長設備 —立式
SiC籽晶粘接設備
最新新聞
國產化進程再加速！山東力冠自主研發12英寸立式爐新品正式發布
山東力冠升級PVT設備，引領8-12英寸碳化硅晶圓高效量產
國產半導體裝備迎重大進展！山東力冠微電子裝備推出12英寸液相法SiC長晶爐
槐蔭區第十九屆人大常委會成員蒞臨山東力冠微電子裝備有限公司視察調研
從8英寸PVT設備批量交付到12英寸電阻法長晶系統商業化落地——第三代半導體裝備國產化進程提速
山東力冠微電子裝備二期項目正式簽約！
在線留言
立式爐管設備
臥式爐管設備
PVT法單晶生長設備
HVPE單晶生長設備
提拉法單晶生長設備
布里奇曼法單晶生長設備（VB、VGF）
地址：濟南市槐蔭區濟南寬禁帶半導體產業園
電話：15562450816
郵箱：liguan1218@163.com
Copyright ? 山東力冠微電子裝備有限公司
網站建設：中企動力 濟南二分 | 標簽 | 營業執照 | 城市分站
